全自动槽式清洗机的特点及用途——兆声波清洗——兆声清洗——上海央米兆声清洗
全自动槽式清洗机广泛应用于集成电路、MEMS和光伏领域的CMP后清洗工艺。该清洗机可对晶圆片表面、背面、边缘进行清洁。自主创新的兆声清洗技术可以去除附着在晶圆表面的细颗粒污染物，实现高效去除。可提供多罐化工液体或纯水，结合、溢流、快速清洗等清洗方式，配合先进的IPA干燥方式，可同时对应25或50件进行工艺处理。
产品特点
智能、精准的传动控制系统
自动化学品集中供液系统(CDS)
溢液设计，减少液量，降低使用成本
清洗效果强，清洗率≥99%
可扩展多组合清洗工艺
颗粒控制能力，≥0.1μm的颗粒小于15个
药液罐采用双罐设计，可实现精确控温，防止药液泄漏
废液排气独立控制，有效保护人员操作
应用领域
集成电路、微机电系统、光伏等
