光学镜片清洗工艺——清洗污染物——YMMS兆声清洗机
在光学冷加工中，镜片清洗主要是指抛光后残留的抛光液、粘结剂和保护材料的清洗。镜片磨边后清洗磨边油和玻璃粉;镜头涂布前指纹、口环及各种附件清洗。传统的清洗方法是用擦拭材料(纱布、无尘纸)配上化学试剂（汽油、乙醇、丙酮、乙醚）采取浸泡、擦拭等手段进行人工清洗。这种方法费时费力，清洁度差，显然不适合现代规模的光学冷加工行业。这迫使人们寻找一种机械化的清洁方法。因此，兆声清洗技术逐渐进入光学冷加工行业，将进一步推动光学冷加工行业的发展。
兆声波清洗是利用换能器发出兆赫级高能声波, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，以强的声压梯度及声流作用产生的高速流体力学层连续冲击，使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。
兆声波清洗不会产生强烈的空化效应，可以避免在清洗过程中造成对清洗对象表面的损伤与污染物残留。兆声波清洗效率高、时间短，使用清洗剂浓度低，化学试剂的消耗量少，因此对环境的危害水平较低。
兆声清洗机，清洗均匀、细微的损伤基本没有、最适用于半导体晶片和HDD部品等的超精密清洗。利用加速度和化学的作用除去微米以下的颗粒。可设定对应不同的清洗物以及装置的各种形状的振板。接液部的材质对应于清洗液和洁净度，使用不锈钢-钽-石英等材料来制作。
应用领域：
● CMP化学机械抛光
● 键合前清洗
● 掩膜清洗
● 显影
● 去胶
● Lift-off金属剥离
● 湿法刻蚀
● 镜头清洗
● 显示屏等微电子行业精密清洗
