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一种半导体晶片兆声清洗装置，涉及半导体集成电路器件清洗技术领域，包括用于吸附半导体晶片的真空吸盘，与所述真空吸盘配套的旋转驱动装置，设置在所述真空吸盘上方的兆声喷头，与所述兆声喷头相连的兆声发生器,其特征在于：在所述真空吸盘外设有废水收集装置，所述废水收集装置包括位于真空吸盘下方并且呈环形的收集槽，与所述收集槽外壁相连的集水筒以及与所述收集槽相通的排水管，所述集水筒的顶端面高于所述兆声喷头的下端面。本发明的有益技术效果是：能够有效收集清洗过程中产生的废水，防止对晶片产生二次污染。
